光刻機(jī)（膠）板塊2月28日漲0.72%，華懋科技領(lǐng)漲，主力資金凈流出2.04億元 環(huán)球觀焦點(diǎn)

(資料圖)

2月28日光刻機(jī)（膠）板塊較上一交易日上漲0.72%，華懋科技領(lǐng)漲。當(dāng)日上證指數(shù)報(bào)收于3279.61，上漲0.66%。深證成指報(bào)收于11783.8，上漲0.7%。光刻機(jī)（膠）板塊個(gè)股漲跌見下表：

從資金流向上來看，當(dāng)日光刻機(jī)（膠）板塊主力資金凈流出2.04億元，游資資金凈流入2665.09萬元，散戶資金凈流入1.78億元。光刻機(jī)（膠）板塊個(gè)股資金流向見下表：

北向資金方面，當(dāng)日光刻機(jī)（膠）板塊北向資金持股市值為72.01億元，增持0.12億元。其中增持最多的是上海電氣，增持了0.18億元。減持持最多的是大族激光，減持了0.15億元。光刻機(jī)（膠）板塊北向資金持股變動(dòng)明細(xì)見下表：

標(biāo)簽： 資金凈流出 華懋科技