拓荊科技-U（688072）4月14日13點(diǎn)0分觸及漲停板 環(huán)球要聞

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4月14日盤中消息，13點(diǎn)0分拓荊科技-U（688072）觸及漲停板。目前價(jià)格430.64，上漲20.0%。其所屬行業(yè)半導(dǎo)體目前上漲。領(lǐng)漲股為耐科裝備。該股為大基金概念，半導(dǎo)體，國(guó)產(chǎn)芯片概念熱股，當(dāng)日大基金概念概念上漲3.01%，半導(dǎo)體概念上漲2.52%，國(guó)產(chǎn)芯片概念上漲1.42%。

拓荊科技-U的投資邏輯如下：

1、公司主要從事高端半導(dǎo)體專用設(shè)備的研產(chǎn)銷和技術(shù)服務(wù)；公司聚焦的半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備與光刻機(jī)、刻蝕機(jī)共同構(gòu)成芯片制造三大主設(shè)備；主要產(chǎn)品包括等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）設(shè)備、原子層沉積（ALD）設(shè)備和次常壓化學(xué)氣相沉積（SACVD）設(shè)備三個(gè)產(chǎn)品系列；國(guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金股份有限公司持股19.86%

2、公司主要從事高端半導(dǎo)體專用設(shè)備的研產(chǎn)銷和技術(shù)服務(wù)，主要產(chǎn)品包括等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）設(shè)備、原子層沉積（ALD）設(shè)備和次常壓化學(xué)氣相沉積（SACVD）設(shè)備三個(gè)產(chǎn)品系列，已廣泛應(yīng)用于國(guó)內(nèi)晶圓廠14nm及以上制程集成電路制造產(chǎn)線；21年半導(dǎo)體設(shè)備收入7.45億元，營(yíng)收占比98.32%

3、公司主要從事高端半導(dǎo)體專用設(shè)備的研產(chǎn)銷和技術(shù)服務(wù)，主要產(chǎn)品包括等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）設(shè)備、原子層沉積（ALD）設(shè)備和次常壓化學(xué)氣相沉積（SACVD）設(shè)備三個(gè)產(chǎn)品系列，已廣泛應(yīng)用于國(guó)內(nèi)晶圓廠14nm及以上制程集成電路制造產(chǎn)線

4月13日的資金流向數(shù)據(jù)方面，主力資金凈流入1.04億元，占總成交額8.73%，游資資金凈流出9964.84萬(wàn)元，占總成交額8.4%，散戶資金凈流出400.73萬(wàn)元，占總成交額0.34%。

該股最近90天內(nèi)共有18家機(jī)構(gòu)給出評(píng)級(jí)，買入評(píng)級(jí)12家，增持評(píng)級(jí)5家，中性評(píng)級(jí)1家；過(guò)去90天內(nèi)機(jī)構(gòu)目標(biāo)均價(jià)為301.88。

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